专利保护应满足的基本要求有（　　）

1、专利保护应满足的基本要求有（　　）。

A、不违反国家法律与社会公德

B、属于专利法意义下的发明创造

C、不属于不授予专利权的发明创造

D、属于不授予专利权的发明创造

【正确答案】ABC

【答案解析】专利保护应满足的基本要求:

（一）不违反国家法律与社会公德；

（二）属于专利法意义下的发明创造；

（三）不属于不授予专利权的发明创造。

2、（　　）不属于专利法的客体，但利用其性质解决技术问题则不属于此列。

A、气味

B、声

C、光

D、磁

【正确答案】ABCD

【答案解析】气味或者声、光、电、磁、波等信号或者能量不属于专利法的客体，但利用其性质解决技术问题则不属于此列。

3、专利三性是指（　　）。

A、新颖性

B、创造性

C、效率

D、实用性

【正确答案】ABD

【答案解析】效率不属于专利三性之一。

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